EVAP-4C

Le EVAP-4C Mini E-Beam Evaporator est une source par bombardement électronique compacte à 4 poches de capacité standard (0,21 ou 0,39 cc) dédiée au dépôt de couches minces en environnement UHV.Il permet la co-évaporation indépendante de jusqu’à quatre matériaux avec un contrôle précis de la vitesse de dépôt. Le système utilise un faisceau d’électrons focalisé pour chauffer directement le matériau (tige à évaporer) ou indirectement via creuset, limitant fortement la charge thermique sur le substrat comparé aux sources thermiques conventionnelles. La tête en cuivre refroidie activement réduit le dégazage et améliore la stabilité en fonctionnement. Un mesureur de courant ionique permet de contrôler le flux offrant une régulation de la vitesse de dépôt indépendamment du QCM, particulièrement utile en co-évaporation multi-matériaux. Point clé d’architecture : une seule alimentation 4 canaux contrôle indépendamment les 4 poches. Contrairement à certaines solutions nécessitant une alimentation dédiée par creuset, l’EVAP-4 rationalise l’intégration électrique, réduit l’encombrement et optimise le coût global du système. Compatible avec une large gamme de matériaux (Ag, Au, Cu, Cr, Ni, Ti, Pt, W), y compris métaux réfractaires.

Le EVAP-4C constitue une solution compacte, performante et économiquement optimisée pour la R&D avancée, le prototypage dispositifs et les applications nécessitant une co-évaporation contrôlée en UHV.