FDG 150 (source d'ions)

La source d'ions FDG 150 se distingue par sa polyvalence, permettant de décaper les surfaces de métaux et de semi-conducteurs, d'éroder en profondeur pour une analyse chimique par XPS ou par ISS/LEIS, ou encore de servir de source de neutralisation de charges pour des énergies inférieures à 15 eV. Cette source fonctionne avec des gaz standards tels que l'argon ou l'hélium, mais peut également utiliser des gaz réactifs comme l'hydrogène ou l'oxygène.

Équipée d'un mode de balayage de surface, la source FDG 150 est idéale pour les applications dédiée à la préparation et l'analyse de surfaces d'échantillons sous vide.

• Taille de faisceau : variable 150µm - 10 mm (limite inférieure 150 µm à 5 keV et 50 mm de distance de travail)
• Energie du faisceau : 500 eV à 5 keV > 15 μA (à 5 keV et 50 mm de distance de travail)
• Mode balayage de la surface : 10 mm x 10 mm
• Orienteur inclus
• Densité de courant ionique : > 4 mA/cm2 avec > 5 µA, D < 200 µm (à 5 keV et 50 mm de distance de travail)
• Régulation du courant ionique
• Mesure du courant ionique
• Pompage différentiel
• Filament positionné sans alignement avec l'échantillon
• Interface TCP/IP
• Logiciel Labview
• Filament de tungstène recouvert d'oxyde d'yttrium compatible O₂
• Filament de tungstène compatible H (en option)₂
• Vanne microfuite (en option)