NL UHV

La série NL-UHV est une source UHV dédiée à la génération contrôlée de nanoparticules pures et alliées pour la réalisation de revêtements fonctionnels. Elle repose sur la technique de Terminated Gas Condensation, combinant pulvérisation magnétron et condensation contrôlée en phase gazeuse. Les vapeurs métalliques sont générées par plasma argon puis refroidies dans une zone d’agrégation pour former des clusters. La source permet un contrôle précis de la taille, de la composition et de la structure des nanoparticules. Les configurations disponibles incluent une tête 1″, 2″ ou triple 1″ (NL-D3). La version triple autorise la co-déposition simultanée de deux ou trois matériaux pour la synthèse d’alliages ou de structures hybrides. Les nanoparticules obtenues sont hydrocarbon-free et non agglomérées. La taille peut être ajustée typiquement entre 1 et 20 nm. La densité du revêtement peut varier d’un sous-monocouche à une couche 3D nanoporeuse. La structure peut évoluer de cristalline à amorphe selon les paramètres plasma. Le contrôle s’effectue via débit Ar/He, puissance magnétron (DC ou Pulsed DC), longueur d’agrégation et diamètre d’orifice. Des plaques d’orifice 2, 3, 4 et 5 mm sont fournies en standard. La source peut être intégrée dans des systèmes PVD existants ou dans les plateformes NL-CUBE et NEXUS
Un filtre de masse quadripolaire NL-QMS permet la sélection en taille ou masse en temps réel. La résolution en sélection de masse atteint ±2 %. La plage d’analyse couvre 100 à 10⁶ amu. Le logiciel Windows™ assure le scan, le filtrage et l’enregistrement des spectres. Le système fonctionne à 630 V DC ou Pulsed DC et nécessite un pompage turbo 300 L/min. Le refroidissement peut être assuré par eau ou LN₂ selon configuration

La série NL-UHV constitue une plateforme avancée pour la recherche en catalyse, énergie, capteurs et nanomatériaux.