FDG 15 (source d'ions)

La source d’ions FDG15 se distingue par sa polyvalence, offrant la capacité de décaper les surfaces de métaux et de semi-conducteurs, d’effectuer une érosion en profondeur pour une analyse chimique par XPS ou par ISS/LEIS, et de servir de source de neutralisation de charges pour des énergies inférieures à 15 eV. Cette source est compatible avec des gaz standards tels que l’argon ou l’hélium, mais peut également utiliser des gaz réactifs comme l’hydrogène ou l’oxygène.

Idéale pour les applications dédiée à la préparation et à l’analyse de surfaces d’échantillons de surface sous vide.

• Taille de faisceau : variable 300µm – 10 mm (limite inférieure 300 µm à 5 keV et 50 mm de distance de travail)
• Energie du faisceau : 500 eV à 5 keV > 15 μA (à 5 keV et 50 mm de distance de travail)
• Orienteur inclus
• Densité de courant ionique : > 4 mA/cm2 avec > 5 µA, D < 350 µm (à 5 keV et 50 mm de distance de travail)
• Régulation du courant ionique
• Mesure du courant ionique
• Pompage différentiel
• Filament positionné sans alignement avec l’échantillon
• Interface TCP/IP
• Logiciel Labview
• Filament de tungstène recouvert d’oxyde d’yttrium compatible O₂
• Filament de tungstène compatible H (en option)₂
• Vanne microfuite (en option)